紫外掩膜曝光机

UV Mask Aligner

仪器介绍

INSTRUMENT INTRODUCTION

型 号: MA605080104

制造商：慕尼黑

主要规格和技术参数：

灯的功率：350W 波长：掩膜版最大尺寸: 7 inch，对应衬底小一寸（6寸） 曝光类型：接近式曝光精度等于或好于2.5μm；软接触曝光2μm；硬接触曝光1μm 对准标记（十字）的套准精度典型值为±0.5μm

主要功能及特色：

功能：将衬底和掩膜版对准后，对表面涂盖紫外光刻胶的衬底进行曝光，经显影后在衬底的光刻胶上形成掩膜版上的图形；可使用接近式、软接触式和硬接触式曝光模式；可对正性或负性光刻胶进行曝光，曝光图形最小尺寸可达1μm 微米应用：用于制备微米级电子器件，MEMS系统，生物医疗芯片等

放置地点：

深圳大学光电中心，深大南校区基础实验楼一期负一楼

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