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双光子聚合3D光刻机

来源:[深大]   时间:2023-07-04  浏览量:

双光子聚合3D光刻机

Two photon polymerization 3D lithography machine

仪器介绍

INSTRUMENT INTRODUCTION

品牌: WOP

型 号: ASN-EPI-C6

制造商: UAB Altechna R&D

原产地: 立陶宛

主要规格和技术参数:

飞秒激光光源: 1. 波长:1028±5 nm 2. 平均功率:≥4W @ 1028 nm 3. 重复频率:1 Hz至200 KHz可调 4. 脉冲宽度:290 fs至10 ps可调 5. 最大脉冲能量:>200μJ 6. 光束直径:3 ±1 mm 7. 封闭内循环水冷却 二倍频模块: 1. 输出波长:514±3 nm 2. 转换效率:>50 % @514 nm 精密定位平台: 1. XYZ1+Z2四轴定位平台(X轴和Y轴为空气轴承平台) 2. 行程(XYZ1Z2):200*100*5*50 mm 3. 定位精度XY:±400 nm 4. 定位精度Z1:±1.5 μm 5. 定位精度Z2:±2.5 μm 6. 重复精度XY:±100 nm 7. 分辨率XY:5 nm 空间光调制器(SLM) 1. 矩阵大小:SXGA (1280 x 1024 pixels) 2. 操作波长:510 ± 50 nm 3. 输入位数:256 (8 bits) levels 4. 有效面积:16 mm x 12.8 mm 5. 空间分辨率:≤25 lp/mm 6. 光学转换效率:≥98 % 聚焦光学元件 1. 放大率/数值孔径:10倍,20倍,50倍,100倍,63倍,其中 63倍为油镜。 2. 数值孔径分别对应为:0.28,0.29,0.42,0.7,1.4 3. 工作距离分别对应:34,31,17,6,0.1 4. 分辨率分别对应:4 μm,2 μm,1 μm,0.5 μm,0.3 μm

主要功能及特色:

1. 微加工:微切割、开孔、开槽、打标等 2. 制作表面微纳结构 3. 制作光波导 4、双/多光子聚合

放置地点:

深圳大学光电中心,深大南校区基础实验楼一期负一楼

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