双光子三维光刻机

Two photon three-dimensional lithography machine

仪器介绍

INSTRUMENT INTRODUCTION

型 号: Nanoscribe Photonic Professional GT

制造商: 德国Nanoscribe

原产地: 立陶宛

主要规格和技术参数：

硬件技术参数： 1) 具有宽广的可加工光敏材料选择的自由度,包含: SU-8, Ormocere, PEG-DA, AZ系列, As2S3, IP-L 780, IP-G 780等；2) 二维平面可加工范围最小须达 100 x 100 mm²; 3) 三维移动工件台执行写入作业，重复精度误差<± 10nm；4) 横向最小三维线宽 <200 nm；5) 横向最小二维线宽 <160 nm；6) 3D 结构垂直方向最佳分辨率，最小间格须达1000 nm 以下； 7) 2D 结构横向最佳分辨率须达500 nm以下；8) 扫描振镜模式最高写入速度须达10mm/sec以上；*9) 可对激光直写过程进行实时监控；10) 激光脉宽120 fs, 频率80MHz±1MHz。

软件能力: a) 对于可以同时装入多个样品的工件台，设备必须具备从一个样品位置自动切换到另一个样品位置的能力； b) 可自动切换不同的显微镜镜头功能；*c) 设备必须具有自动侦测光刻胶和衬底界面的功能.如果光刻胶和衬底界面的折射率区别较大（如IP-L 780和玻璃衬底）的话，在使用高数值孔径的物镜的条件下，能找到的界面的精度需要达到±150 nm；d) 能够对衬底的倾斜进行自动检测并相应的进行坐标转换补偿以维持所设计器件不失真；e) 设备需要具有二次校准功能。如果工件需要经过两个不同的加工环节，那么设备需要能够准确的依据第一步加工情况以调节第二步样品加工的位置；f) 设备必须能够自动调节运动速度，特别是在转弯的时候，以达到维持样品加工速度的同时达到很高的保真度；g) 能够根据工件台的移动情况实时对激光能量调制, 以维持恒定的线宽；h) 远程遥控: 计算器具有远程遥控功能以便系统供货商透过连网方式提供实时的协助与应用支持；i) 导入三维的模型：能够兼容STL图形文件格式；j) 如果使用STL文件格式的话，必须在对STL文件自动转化为设备原生可执行文件的过程中对曝光量进行高度上的补偿，以克服因色散带来的激光能量的损失；k) 设备能够克服因球差（spherical aberration）引起的聚焦光斑在沿Z轴方向的不稳定性，达到高度方向均匀一致的工件加工品质；l) 大块的实心结构可以通过只曝光其壳层的方式进行加工，极大缩短加工时间

放置地点：

深圳大学光电中心，深大南校区基础实验楼一期负一楼

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