等离子体去胶机

ALPHA PLASMA

仪器介绍

INSTRUMENT INTRODUCTION

型 号: Q23504400618

制造商: Alpha Plasma

主要规格和技术参数：

1. 腔室材料和大小：石英材质，12 升，直径240mm，深260mm 2. 所处理样片尺寸：最大可处理一片8”样片 3. 真空泵：BOC Edwards XDS35i 干泵，抽速35 m3/h 4. 工艺气体：两路：氧气、氩气，MKS 质量流量控制器控制气体流量，流量控制上限为 500 及200 sccm；气体输入腔室带匀流设计，以保证等离子体的均匀性 5. 微波源：功率100-600W，2.45GHz，自动耦合 6. 软件全自动控制： 10.4" 显示屏，触摸屏操作方式； 基于Windows®操作系统的触摸屏界面提供全自动的控制，图表化用户界面设计，操 作简单，好学易用； 有USB 接口，方便数据调取；可远程控制，可与Window office 兼容 用户密码保护设置 工艺数据可存储，工艺参数可输出 实时以图表化的形式监测工艺过程及各项数据 自动或人工操作均可实现。 7. 设备要求占地小，不超过：620x500x550mm(宽x 高x 深)

主要功能及特色：

在微纳米加工前工序中，光刻胶只是图形转化的媒介，当光刻后在光刻胶上形成微纳米图形后，需要进行下一步的生长或刻蚀的工艺，之后需要用某种方法把光刻胶去除。微波等离子体去胶机可实现此功能。它用微波方式产生等离子体，同时通入氧气，与光刻胶进行氧化反应，形成气体被机械泵抽走。

放置地点：

深圳大学光电中心，深大南校区基础实验楼一期负一楼

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