高分辨率电子束成像曝光机

Electron Beam Lithography System

仪器介绍

INSTRUMENT INTRODUCTION

品牌: Raith

型 号: PIONEER Two

制造商: Raith GmbH

原产地: 德国

主要规格和技术参数：

肖特基热场发射电子枪 电子束能量： 20eV~30keV；最小束斑尺寸≤1.6nm；最小线宽≤8nm；工作台运动行程：50 x 50 x 25 mm；激光干涉工作台定位精度：1nm；适用于2英寸及以下尺寸的样品；拼接/套刻精度≤60nm [mean + 3σ]；Bruker QUANTAX 200能谱仪

主要功能及特色：

主要用于微纳米光电器件的加工，二次电子成像测量，以及材料的成分分析。设备功能主要为高分辨电子束曝光、高分辨电子束成像测量，以及能谱分析

放置地点：

深圳大学光电中心，深大南校区基础实验楼一期负一楼

仪器预约