电子束光刻机

Electron Beam Lithography System

仪器介绍

INSTRUMENT INTRODUCTION

品牌: Raith

型 号: EBPG5150

制造商: Raith BV

原产地: 荷兰

主要规格和技术参数：

最小束斑不大于1.9nm；最小步长为0.1nm； 主场畸变不大于±10nm @500um写场；最小线宽：≤ 8nm @100kV； 拼接精度：100um写场下，拼接精度不大于12nm；250um写场下，拼接精度不大于15nm；500um写场下，拼接精度不大于20nm；1000um写场下，拼接精度不大于30nm； 套刻精度:100um写场下，套刻精度不大于10nm；250um写场下，套刻精度不大于15nm；500um写场下，套刻精度不大于20nm；1000um写场下，套刻精度不大于30nm

主要功能及特色：

功能： 曝光速度快精度高，可采用大写场大束流进行曝光，适用于科研及小批量生产中使用； 自动化程度高，除了放样取样外，整个曝光过程只需要编辑曝光的相关参数，其他过程均可自动完成。应用范围：在各种新型器件如纳米器件、单电子器件、砷化镓场效应器件、真空微电子学器件、高效光电子学器件、超导量子学器件、声表面波器件、微波器件、 集成光学波导微光学器件、平面显示器件、人工智能传感定向器件的制作中将起到至关重要的作用

放置地点：

深圳大学光电中心，深大南校区基础实验楼一期负一楼

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