仪器介绍：
主要功能：主要用于RCA清洗和掩膜版清洗，可用于硅晶圆表面的多类型污染物去除，包括有机物、颗粒和金属离子，也可以用于除掩膜版去除颗粒、光刻胶残渣、指纹油脂及金属污染。
核心参数：
1. 配置3 个独立清洗单元，分工实现不同药液清洗、刷洗、兆声清洗、腐蚀清洗等差异化工艺；
2. 清洗单元 1：支持 SPM、兆声 SC1 药液清洗 ；清洗单元 2：支持DHF、SC2 腐蚀清洗 ；清洗单元 3：支持去胶液、异丙醇清洗；
3. 清洗后表面无灰尘、残留物、玻璃碎片、油污以及划伤。
放置地点：
深圳大学射频异质异构集成全国重点实验室，粤海校区汇研楼负一楼。
平台咨询邮箱：pphi@szu.edu.cn 联系地址：深圳大学粤海校区汇研楼2010室
