设备与平台

晶圆测量系统

来源:   时间:2026-07-14  浏览量:

仪器介绍:

主要功能:该系统是一款模块化的多传感器晶圆量测设备,面向2.5D / 3D 先进封装全工艺段,提供晶圆级非接触、高精度的综合量测。

核心参数:

1. 最大兼容8寸,支持来料RDL尺寸位置量测、膜厚量测、套刻量测、TSV孔深量测、残余硅厚( RST )量测、台阶/粗糙度量测、翘曲/整体厚度偏差( TTV )量测、晶圆厚度量测等;

2. 膜厚和RST量测范围:0.08 ~ 230 µm ( n=1 );

3. CD套刻测量范围: 3 ~ 230 µm ( 50倍率);粗糙度测量范围:0.001 ~ 2 µm;高度台阶测量范围:> 0.001 µm ;TSV深度量测范围:CD>5 µm ( AR <15:1);

4. 晶圆厚度量测范围: 0.1 ~ 3 mm,翘曲量测范围:±1 mm。

放置地点:

深圳大学射频异质异构集成全国重点实验室,粤海校区汇研楼负一楼。



平台咨询邮箱:pphi@szu.edu.cn    联系地址:深圳大学粤海校区汇研楼2010室


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版权所有:射频异质异构集成全国重点实验室