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D2D高精度真空倒装键合设备

来源:   时间:2026-07-14  浏览量:

仪器介绍:

主要功能:支持热压键合、超声键合、共晶回流、非导电胶及混合键合等多种键合方式,广泛应用于2.5D / 3D 先进封装、图像传感阵列、MEMS / MOEMS 及光电器件封装等。

核心参数:

1. 适配芯片尺寸:0.3 mm × 0.3 mm ~ 40 mm × 40 mm;

2. 放置精度:± 0.5 μm;

3. 键合压力:0.1 N ~ 40 N 真空热压;

4. 工作区域:支持最大 50 mm × 50 mm;

5. 温度范围:40 °C ~ 450 °C,升温速率可调;

6. 其他功能:支持蘸胶盘、点胶模块、真空键合腔体等。

放置地点:

深圳大学射频异质异构集成全国重点实验室,粤海校区汇研楼负一楼。


平台咨询邮箱:pphi@szu.edu.cn   联系地址:深圳大学粤海校区汇研楼2010室


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